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第349章 泄露的氢氟酸（第2页）

韩立东走到池边，伸手摸了摸池壁。

确实有点温，但远不到烫手的程度。

他蹲下身，看向池内。

处理池已经清洗过，池底只有浅浅一层清水，用来保持内壁湿润防止锈蚀。

水面平静，没有任何气泡或波动。

看起来一切正常。

韩立东直起身，走到控制台前，按下电源键。

屏幕亮起，显示系统自检。

几秒钟后，自检完成，所有参数显示正常。

温度传感器读数：33。2度。

比刚才又升高了一点。

韩立东调出温度变化曲线。

曲线显示，温度是从两小时前开始缓慢上升的，升温速率大约每小时2度。

持续而缓慢。

这种缓慢的升温，通常意味着池内或池壁附近有微弱的放热反应在进行。

可能是上次处理时，有少量高活性化学药剂渗入了池壁的缝隙或管道接口，现在在缓慢反应。

或者是池底的加热系统绝缘层有轻微破损，导致局部漏电发热。

问题不大。

但韩立东不喜欢这种“不确定”。

他决定启动冷却系统，将温度降下来，明天再安排全面检修。

他按下控制台上的冷却系统启动键。

“嗡——”

低沉的轰鸣声从池底传来。

冷却系统的循环泵启动，冷却液开始在处理池夹层中循环，带走热量。

韩立东看着温度读数。

33。1度。